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X-ray diffraction at elevated temperatures : A method for in situ process analysis / D.d.l. chung ...[y otros.]
Tipo de material:
TextoEditor: New York : Vch, c1993Descripción: 268 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0895737450Tema(s): Rayos X -- Difracción | Rayos X -- Aplicaciones industrialesClasificación LoC:QC482.D5 | X74
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras |
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Libros
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Química Estudios Profesionales Libros | General | QC482.D5 X74 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 50029 |
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