000 01023nam a2200265 a 4500
008 190903s2019^^^^xxua^^^^^^^^^^001^0^eng^d
020 _a9781119089117
_qempastado
020 _a1119089115
035 _aMX001002052224
040 _aUKMGB
_bspa
_erda
_cUKMGB
_dOCLCO
_dOCLCF
_dPUL
_dDLC
_dUNAMX
050 0 _aTP155.7
_bH39
082 0 4 _a660.2812
_223
100 1 _aHaydary, Juma,
_eautor
245 1 0 _aChemical process design and simulation :
_bAspen Plus and Aspen Hysys applications /
_cJuma Haydary
264 1 _aNew York :
_bAmerican Institute of Chemical Engineers ;
_aHoboken, NJ :
_bWiley,
_c2019
300 _axxxix, 391 páginas
_bilustraciones (algunas a color)
336 _atexto
_2rdacontent
336 _aimagen fija
_2rdacontent
337 _asin medio
_2rdamedia
338 _avolumen
_2rdacarrier
650 4 _aProcesos químicos
650 4 _aProcesos químicos
_xSimulación por computadoras
650 4 _aIngeniería química
650 4 _aIngeniería química
_xSimulación por computadora
999 _c15026
_d15026