000 | 01023nam a2200265 a 4500 | ||
---|---|---|---|
008 | 190903s2019^^^^xxua^^^^^^^^^^001^0^eng^d | ||
020 |
_a9781119089117 _qempastado |
||
020 | _a1119089115 | ||
035 | _aMX001002052224 | ||
040 |
_aUKMGB _bspa _erda _cUKMGB _dOCLCO _dOCLCF _dPUL _dDLC _dUNAMX |
||
050 | 0 |
_aTP155.7 _bH39 |
|
082 | 0 | 4 |
_a660.2812 _223 |
100 | 1 |
_aHaydary, Juma, _eautor |
|
245 | 1 | 0 |
_aChemical process design and simulation : _bAspen Plus and Aspen Hysys applications / _cJuma Haydary |
264 | 1 |
_aNew York : _bAmerican Institute of Chemical Engineers ; _aHoboken, NJ : _bWiley, _c2019 |
|
300 |
_axxxix, 391 páginas _bilustraciones (algunas a color) |
||
336 |
_atexto _2rdacontent |
||
336 |
_aimagen fija _2rdacontent |
||
337 |
_asin medio _2rdamedia |
||
338 |
_avolumen _2rdacarrier |
||
650 | 4 | _aProcesos químicos | |
650 | 4 |
_aProcesos químicos _xSimulación por computadoras |
|
650 | 4 | _aIngeniería química | |
650 | 4 |
_aIngeniería química _xSimulación por computadora |
|
999 |
_c15026 _d15026 |